오정우 교수 연구팀의 지도하에 반도체특성화대학 소자/공정 융합전공 학부연구생인 융합과학공학부 이정우, 화학과 전수민, IT융합공학과 내경한 학생이 제32회 반도체 학술대회에 참가하여 포스터 발표를 진행하였습니다.

이번 학술대회에서 학부연구생들은 반도체 소자 및 공정 관련 연구를 수행하며 실험을 설계하고 데이터를 분석하는 과정까지 직접 경험하였습니다. 특히, 각각 배종현, 봉해균, 정도환 대학원생 멘토와 협력하며 연구 방향을 설정하고 실험 결과를 심층적으로 해석하는 과정을 거쳤습니다. 이를 통해 반도체 소재 및 공정 분야의 핵심 기술을 이해하고 연구자로서의 역량을 키우는 소중한 기회를 가졌습니다.

이들은 다음과 같은 주제로 연구를 발표하였습니다.

 · 이정우: Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Beryllium Oxide on Germanium for Reduced GeOx at the Interfacial Layer
 · 전수민: High Etch Rate of Metal-Assisted Chemical Etching on Si

 · 내경한: Electrical Properties of Atomic Layer Deposited Beryllium Oxide on Si

이번 학술대회를 통해 학생들은 연구 결과를 공유하고 다양한 전문가들과 학문적 교류를 나누며 연구에 대한 통찰을 넓힐 수 있었습니다. 앞으로도 지속적인 연구를 통해 반도체 기술 발전에 기여할 수 있기를 기대합니다.