오정우 교수 연구팀의 김경환 박사(제1저자), 최선혜, 봉해균 연구원이 공동 저자로 참여한 논문이 세계적 권위의 과학 저널 Small의 표지 논문(Inside Front Cover)으로 선정되었습니다. 본 연구는 초박막 니켈(Ni) 촉매를 활용해 강한 산화제 없이 실리콘을 식각하는 새로운 metal-assisted chemical etching(MACE) 기술을 제안하였으며, 기존 CMOS 공정과의 호환성과 비용 효율성 면에서 큰 주목을 받고 있습니다. 특히 1 nm 두께의 Ni 촉매를 통해 균일하고 깊은 식각을 구현함으로써, 반도체 나노구조 제작의 새로운 가능성을 제시하였습니다.
이번 연구는 BK21 FOUR 지능형 반도체 IT융합 혁신인재 양성사업단의 지원을 받아 수행되었습니다.

논문 정보: Small, Volume 21, 2409091 (2025년 3월 19일)

논문 링크: https://doi.org/10.1002/smll.202409091